پاورپوینت کامل و جامع با عنوان فرآیندهای کاشت یون در نیمه هادی ها در 31 اسلاید
پاورپوینت کامل و جامع با عنوان فرآیندهای کاشت یون در نیمه هادی ها در 31 اسلاید
کاشت یون (به انگلیسی: ion implantation) فرایندی در مهندسی مواد است که در آن یون‌های برخی مواد را می‌توان در ماده‌ای دیگر کاشت و ویژگی‌های فیزیکی آن ماده را تغییر داد. این فرایند در ساخت نیمه‌رساناها و پرداخت فازها کاربرد دارد. برای کاشت یون، نیاز به یک منبع یون است که با به بکاربردن شتاب‌دهنده ذره‌ای یون‌ها را می‌توان با سرعت زیاد روی سطح مورد نیاز کاشت. هر یون یک اتم یا مولکول است بنابراین مقدار یون انباشت شده روی سطح...
پاورپوینت کامل و جامع با عنوان پوشش دهی سطح فلزات به دو روش Sol Gel و کاشت یون با پلاسما در 26 اسلاید
پاورپوینت کامل و جامع با عنوان پوشش دهی سطح فلزات به دو روش Sol Gel و کاشت یون با پلاسما در 26 اسلاید
فرایند سل-ژل (به انگلیسی: Sol-gel) که همچنین با نام رسوب‌دهی محلول شیمیایی (به انگلیسی: Chemical Solution Deposition) از آن یاد می‌شود، یک روش شیمی تر است که درمهندسی و علم مواد و مهندسی سرامیک به‌طور گسترده استفاده می‌شود. این روش معمولاً برای تولید مواد (به عنوان مثال اکسید فلزات) با شروع از یک محلول کلوئیدی (سل) که به عنوان پیش‌ماده برای یک شبکه به‌هم‌پیوسته (ژل) از ذرات گسسته یا پلیمرهای شبکه‌ای است، بکار می‌رود. پیش‌ماده‌های معمول...